1. 这个是业界早就预期的，由于滋润式光刻机可拿来造14nm芯片，最强能够到7nm。有些有关技能知识。

  3. 我国已经有一些滋润式DUV光刻机，是ASML卖的。拜登搞的协议将让ASML和日本尼康都不能卖了，这样将无法扩产。 估量日本东京电子还会经过耗材供给，卡中芯世界等我国公司现在存在的光刻机制造才能。4. 还能卖的是干法DUV光刻机，也是193nm光源，这种只能用来造55nm、40nm之类的芯片。28nm都不太便利了。这对我国芯片扩张产能有很大影响。5. 现在局势清晰了，我国公司之前的一些扩产假定需求调整，不能盼望ASML和日本供给商，只要一些老练制程里初级的还能扩产。

  6. 最终的关键是，SMEE上电微究竟行不行，滋润式光刻机搞得怎么了，就顶在这了。美国方面应该是有了情报，我国自己没有搞出能够实践运用的滋润式光刻机（我国这或许更习气叫28nm光刻机），所以就推进到这了。问题是还要几年，也不只是光刻机，还有许多配套。整体来说，大众渐渐知道到了难度，时刻节点再三往后推。

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